我们的辉光放电原子发射光谱仪为各种金属材料提供准确的体积分析和定量深度剖析。GDS850 覆盖从 120 到 800 nm 的宽光谱范围，最多可配置 58 个通道，因此您将拥有适合您实验室的定制解决方案。

特征：

• 均匀溅射和非热样品工艺非常适合困难的应用
• 溅射与激发分离
• 具有宽动态范围的线性校准曲线
• 最小化自吸收和材料再沉积
• 几乎完全激发原子线
• 更少和更窄的发射线减少干扰
• 摆脱冶金历史
• 校准所需的标准更少
• 低氩气消耗
• 样品之间的自动清洗可节省您的时间

应用：

美国力可GDS850 非常适合以下应用：钢、铁（包括铸态）、铝、铜、锌、镍、钴、钨和钛材料。

操作理论：

其他方法可能会优先攻击样品表面，并不总是提供有代表性的样品进行分析。通过辉光放电，样品材料从表面均匀溅射。采样过程的非热特性使其成为适用于困难应用的出色技术。

辉光放电光谱法利用低压、非热过程，其中材料通过氩离子流从样品表面均匀溅射。然后，溅射材料在远离样品表面的低压等离子体放电中被原子化和激发。GDS850 专注于这项技术，以提高您的实验室在过程控制和研究/开发调查方面的性能。它为涂层分析和表面处理提供高度准确的整体分析和成分深度分析。