GDS850辉光放电光谱仪采用低压，冷激发光源，材料被氩离子流均匀地从样品表面剥离溅射。被溅射出的材料原子在远离样品表面低氩的等离子体内被激发。
GDS850的配备提高了实验室的质量控制和研发能力，它提供了非常准确的基体分析以及成分深度剖析涂层分析和表面处理的结果。仪器检测光谱范围从120到800纳米，最多配置58个通道。
GDS850辉光放电光谱仪特征
溅射与激发分离
宽动态范围的线性校准曲线
更小自吸收和材料再沉积
原子线激发
少和窄的发射线减少干扰
无冶金记忆效应
较少的校准标样
低氩气消耗
两次分析间的自动清扫
均匀的溅射
其他方法可能只是激发样品表面，所采集的数据并不一定具有代表性。而辉光放电，样品材料均匀地从表面激发溅射，冷光源的激发为一些困难样品的检测提供了很好的技术。
应用
美国力可GDS850光谱仪非常适合以下应用：钢、铁（包括铸态）、铝、铜、锌、镍、钴、钨和钛材料。
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